射頻等離子清洗原理

文章出處：本站 | 網(wǎng)站編輯：深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-04-27

等離子體定義

所謂等離子體是正離子和電子的密度大致相等的電離氣體。由離子、電子、自由激進分子、光子以及中性粒子組成，是物質(zhì)的第四態(tài)。人們普遍認為的物質(zhì)有三態(tài)：固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)。區(qū)分這3種狀態(tài)是靠物質(zhì)中所含能量的多少。給氣態(tài)物質(zhì)更多的能量，比如加熱，將會形成等離子體。

射頻等離子清洗原理

射頻等離子清洗設(shè)備的原理是利用真空腔體產(chǎn)生真空負壓，在真空狀態(tài)下，工藝氣體壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小。在5～10Pa氣壓范圍內(nèi)利用頻率為13.56MHz、1000W功率（功率范圍）的射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場將O2、Ar2、H2或CF4等工藝氣體的分子之間化學(xué)鍵打斷，激蕩成具有高活性或高能量的離子團，該等離子團具有很高的動能，與有機污染物、微顆粒污染物或金屬氧化層反應(yīng)或碰撞形成易揮發(fā)性物質(zhì)，然后通過真空泵產(chǎn)生的負壓管道氣體流將這些揮發(fā)性物質(zhì)抽出，從而達到持續(xù)高精密清潔、活化器件表面的目的。

射頻等離子清洗物理清洗和化學(xué)清洗兼具

等離子清洗用氧氣會被激發(fā)成活性粒子，其主要祛除的是有機物如油脂等。這些活躍粒子與待清洗器件的雜質(zhì)生成化學(xué)反應(yīng)，變成易揮發(fā)的、極小的如水分子、二氧化碳分子等，然后被抽真空泵排出。氧氣等離子清洗的致命缺點是清洗完的器件容易生成新的氧化物，變成二次污染。氬氣等離子清洗是用氬分子快速沖撞待清洗器件表面，靠其速度快、能量高使雜質(zhì)脫離器件表面。氬氣屬于惰性氣體，在等離子清洗中屬于物理反應(yīng)，其優(yōu)點在于器件可以保持表面物質(zhì)的化學(xué)性能不被改變，沒有二次污染產(chǎn)生。

等離子清洗技術(shù)是利用等離子體中各粒子的能量，通過化學(xué)或物理方式作用于物體表面，改善物體表面狀態(tài)的工藝過程。不同等離子體電源會產(chǎn)生不同頻率的等離子體，產(chǎn)生不同的作用效果。13.56MHz射頻等離子體在物體表面既可以產(chǎn)生物理作用，又可以產(chǎn)生化學(xué)作用，射頻等離子清洗技術(shù)是能夠替代目前所采用的濕化學(xué)方法的一種真正綠色手段，也為工業(yè)清洗技術(shù)開辟了嶄新的一頁。