利用真空等離子清洗技術(shù)清洗石英陶瓷等器件的內(nèi)部孔道及型腔

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2023-02-21

在材料表面清潔過程中，石英器件內(nèi)部孔道的清潔處理一直是一個(gè)難題。在許多工程應(yīng)用上一些精密器件內(nèi)部表面的清潔程度是影響器件性能的關(guān)鍵因素。以往一些石英器件內(nèi)部孔道、型腔的清潔工藝多為溶劑清洗、超聲波清洗等，這些清洗方式對(duì)于常規(guī)物理吸附及化學(xué)吸附的雜質(zhì)及氣體有著不錯(cuò)的去除效果，但對(duì)于某些特殊難溶有機(jī)物、氧化物等頑固雜質(zhì)卻不能起到很好的效果，而且這些工藝最大的缺點(diǎn)是內(nèi)部孔道和型腔內(nèi)的清洗液很難排除干凈，殘留的清洗液在后續(xù)的烘烤除氣中會(huì)固化在孔壁上，嚴(yán)重影響這些精密器件的精度和使用性能。

等離子清洗技術(shù)
等離子體是一種物質(zhì)聚集態(tài)，區(qū)別于其他的三態(tài)（固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)），等離子體是物質(zhì)存在的第四態(tài)。氣體吸收能量被電離，產(chǎn)生大量的自由電子、正負(fù)離子、自由基和其他中性粒子，因此，等離子體一般可以稱為部分或完全電離的物質(zhì)的聚集態(tài)。被電離的聚集態(tài)中帶正電粒子的總電荷量和帶負(fù)電粒子的總電荷量是相等的，所以從宏觀上來說，等離子體是準(zhǔn)電中性的。等離子體清洗技術(shù)就是利用高能量密度的等離子體弧照射物體表面污染物產(chǎn)生一系列的物理化學(xué)作用,快速去除污染物的過程。等離子體的方向性不強(qiáng),因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),不必考慮清洗物體形狀的影響。

真空等離子清洗理論基礎(chǔ)
針對(duì)精密儀器的現(xiàn)實(shí)需求，真空等離子清洗技術(shù)，在清理小型器件內(nèi)部封閉孔道附著的難溶有機(jī)物、氧化物方面有著非常顯著的效果。真空等離子清洗其工作理論基礎(chǔ)為射頻濺射原理（圖1），即空間中不斷游離的電子從高頻電場中獲得足夠的能量，與充入的工藝氣體分子充分發(fā)生碰撞，并使后者電離，產(chǎn)生大量的等離子體，然后在交變電場作用下進(jìn)行濺射轟擊，通過物理作用使污染物從孔道內(nèi)表面脫落。同時(shí)，電離氣體產(chǎn)生的活性粒子會(huì)與表面的有機(jī)物或者氧化物等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)進(jìn)而生成易于揮發(fā)的物質(zhì),脫落物質(zhì)通過真空泵的抽氣作用排出以達(dá)到清洗的效果。

等離子清洗原理圖

高效、快捷、無污染的清洗方法一直是清洗行業(yè)的奮斗目標(biāo),等離子體清洗技術(shù),是近幾年發(fā)展起來的新型“綠色”清洗技術(shù)之一。與傳統(tǒng)清洗方法相比,等離子體清洗技術(shù)由于具有不用清洗液,去除表面缺陷,清除的污物范圍和適用的基材范圍廣等優(yōu)點(diǎn),在許多領(lǐng)域中可以成為傳統(tǒng)清洗方法的補(bǔ)充和延伸,也可以取代傳統(tǒng)清洗工藝,具有廣闊的應(yīng)用前景。

本文由國產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技整理編輯，等離子清洗機(jī)采用射頻等離子體放電轟擊對(duì)精密儀器、器件制造領(lǐng)域石英及陶瓷類器件的內(nèi)部孔道表面進(jìn)行處理，利用高能量等離子體轟擊被清洗表面,使污染物通過物理作用和發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而排出，以達(dá)到清洗效果。該清洗方式原理清晰、結(jié)構(gòu)簡單、性能穩(wěn)定，其應(yīng)用涵蓋中子管、光電倍增管、激光陀螺等多個(gè)精密儀器、器件制造領(lǐng)域，還可用于其他陶瓷類小型精密器件的內(nèi)部孔道清洗。